現(xiàn)在的平面研磨機(jī)都是采用游離磨料 合適的研磨加工機(jī)器和研磨工藝的平面研磨，作為一種設(shè)備相對(duì)簡(jiǎn)單，又仍然可以得到很高的形體精度和表面質(zhì)量的方法，依舊是超精密加工最有效的手段之一了。

那么超精密的平面研磨加工技術(shù)是研磨技術(shù)中的一種，可以獲得極高的零件表面質(zhì)量，主要是可以獲得極高的面部精度 （平面度 平行度等）和無(wú)加工變質(zhì)層的表面。現(xiàn)代高科技產(chǎn)品的制造，如單晶硅片 硬磁盤(pán)基片 壓電陶瓷換能器等均需要采用超精密平面研磨加工技術(shù)。

超精密平面研磨可以分為四個(gè)基礎(chǔ)組成成分----研磨盤(pán) 研磨液 磨粒和工件。研磨盤(pán)是精密研磨加工中的磨具，其面型精度對(duì)被加工件的面型精度影響非常大，模具表面形貌能在一定程度上復(fù)制到工件面上。

拋光是利用柔性?huà)伖夤ぞ吆湍チ项w粒或其他拋光介質(zhì)對(duì)工件表面進(jìn)行的修飾加工。拋光不能提高工件的尺寸精度或幾何形狀精度，而是以得到光滑表面或者鏡面光澤為目的，所以通常是作為精密加工最后的一道工序。因?yàn)檠心ズ蛼伖獾脑韥?lái)說(shuō)基本是一致，所以通常所有的加工設(shè)備也可以通用，故經(jīng)常將研磨和拋光并提，稱(chēng)之為研磨拋光技術(shù)。研磨拋光可以通過(guò)單盤(pán)單面研磨拋光或者雙面研磨拋光實(shí)現(xiàn)。雙面流離磨料研磨中工件在上下盤(pán)之間，研磨時(shí)上下表面被同時(shí)加工。單面拋光在對(duì)單面有平坦度的要求，背面形狀復(fù)雜不易夾持或單平面基準(zhǔn)面及高平坦之鏡面加工要求時(shí)，或薄易碎而沒(méi)有變形的情形下特別適用。單面游離磨料研磨拋光加工因其適應(yīng)面廣，仍然是應(yīng)用最廣泛的加工形式之一。

超精度拋光最大的特點(diǎn)是它不改變工件的面部精度，只是改善了其表面粗糙度，超精密拋光可使工件的表面粗糙度達(dá)到納米級(jí)甚至次納米級(jí)，超精密研磨最大的特點(diǎn)就是獲得極高的面部精度，打一個(gè)比方，將精密平面研磨可以使工件的平面度達(dá)到十分之一甚至百分之一微米的水平。因此為使工件獲得高的面型精度，低的表面粗糙度。我們會(huì)將精密研磨技術(shù)和超精密拋光技術(shù)并提，于是稱(chēng)之為超精密平面研磨拋光技術(shù)。取超精密研磨的高精度及超精密拋光的低表面粗糙度，從而加工出非常精密的零件。